第132章 十倍精度光刻

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纪弘也很头疼，产能怎么挤？巧妇也难为无米之炊！

最关键的自然不是零部件这种东西，而是光刻机。

不说别的，在限制一次又一次的加码之后，国内现在能够进口的最先进的光刻机是1980di，曝光精度是38nm的那款。

主要用于28nm、14nm制程，多重曝光的情况下，也能制造7nm芯片。

更高级别的已经完全不能出货了。

哪怕是1980di，现在要买也只有理论上的可能。现有的都是存量，都是有数的——华为的先进工艺，就是用这款光刻机采用多重曝光工艺生产的。

等效5nm，算是把这台光刻机压榨到了极限。

而国内生产已经投入商用的光刻机，是分辨率90nm的沪上微电子的ssa600/20。

回到家里，纪弘在书房，也是一样一样的在整理着国内的产业现状，心里也在思索一个可行的方案。

在他心里，王华新院士那边，超爆分辨率光刻机结合类思维ai大概率是可以瞬间解决问题的，目前这个型号的光刻机大约有十六台。

但，不管是否能行，都不能把鸡蛋放在同一个篮子里。

另一个方案……

他明天约了于总，这需要产业整合。

……

“用1980di生产更高工艺级别的芯片？做到台积电n5p的密度？能效比也要追上？”

纪弘一发邀请，于东立即就来了，不为别的，就为手机系统集成大小核与多线程智慧调度模块的开发已经完成。

但见面第一个问题，直接就把于东给搞懵了。

华为这两年一直在回避工艺这个问题，无论是去年的9000s和其一系列衍生物，还是今年即将发布的新的芯片，都不会对外公布工艺。

所谓等效7nm，等效5nm之类的，都是拆机爱好者用电子显微镜decode之后计算出来的。

但是自家人知自家事儿，性能、功耗、工艺三者之间的桎梏是没那么容易打破的。

就比如9000s，调校激进一些不是问题，但功耗立即就会控制不住，发热和耗电都会严重，这就是工艺过低带来的弊端。

这两年，一直在这个工艺上修修补补，说是等效5nm了，但是能效比跟真正的5nm相去甚远。

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