第81章 第一片“争气芯”!!(第1/2页)
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选择一片质量最好的硅片,反复清洗、脱水。然后涂胶——秦念亲自操作,手腕匀速稳定旋转,力求胶膜均匀如一。
前烘——严格控制时间和温度。曝光——将掩膜版与硅片在显微镜下小心翼翼地对准、贴紧(全靠手感),放在紫外灯下进行精确计时曝光。
显影——屏住呼吸,看着图形在液体中一点点显现。后烘——巩固图形。
腐蚀——调配好的腐蚀液,硅片浸入,缓慢摇晃,心中默数,严格控制时间。最后,去胶,清洗。
每一步都像是在万丈深渊上走钢丝,任何一个环节的微小失误,都会导致前功尽弃,让之前所有努力化为泡影。
当最后一片硅片被从去胶液中取出,用超纯水冲洗干净,再用经过过滤的氮气吹干,静静地、仿佛闪烁着微光躺在洁净的培养皿里时,实验室里的空气仿佛彻底凝固了。
三颗心都提到了嗓子眼。三人互相看了一眼,都从对方眼中看到了无比的紧张和期待。他们慢慢地、几乎同时地凑到了显微镜前。
光线调亮。
视野中,硅片的表面不再是平坦的银灰色,而是呈现出凹凸不平的微观地貌!一道道深浅不一的沟槽和一个个孤立的岛区,共同构成了一幅虽然粗糙、却无比清晰、与设计图纸别无二致的电路图形!
图形的边缘依旧不够平滑,线条宽度也不均匀,有些地方甚至可能还有残留或过腐蚀。但是,整个电路的轮廓和结构,真真切切地转移到了硅片上!
“图形……图形转移……完全成功了!”李文军的声音带着难以置信的颤抖,激动得几乎拿不住镜筒。
“快!做电学测试!快!”秦念的心也跳得如同擂鼓,声音因极度紧张和期待而发干。最重要的时刻来临了。
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