第86章 “野路子”正名(第1/2页)

临晚不晚提示您：看后求收藏（手打小说网shouda.org），接着再看更方便。

“星火”研究室的小会议室里，气氛紧张，黑板上画满了密密麻麻的电路图和工艺流程图。

秦念、李文军、张海洋三人正为如何进一步提高“土法光刻”的图形均匀性和分辨率绞尽脑汁。

现有的土法光刻胶涂布不均匀，紫外灯照射也存在边缘效应，导致芯片中心区域和边缘区域的线条宽度不一致，严重影响了良品率和性能一致性。

“要是能有台匀胶机就好了……”张海洋看着显微镜下边缘模糊的线条，唉声叹气。

“还有均匀平行的紫外光源……”李文军补充道，眉头拧成了疙瘩。

秦念没有说话，手指无意识地敲打着桌面。她昨晚刚翻完父亲寄来的那本《半导体物理基础》，里面关于光学干涉和衍射的章节，以及一些傅里叶分析的数学工具描述，让她脑中灵光不断闪现。

她拿起粉笔，在黑板上空着的地方画了几个简单波浪线，试图用最朴素的语言解释一个优化思路：“匀胶机和理想光源我们现在肯定没有。但是，我们或许可以换个‘感觉’。”

她指着那几条波：“你们看，我们现在的涂胶，就像这波浪，高低不平。曝光的光，也是有的地方强，有的地方弱。所以出来的图形自然不均匀。”

李文军和张海洋茫然点头，这现象他们都知道。

“那我们能不能想办法，让胶‘感觉’起来更平一点？让光‘感觉’起来更匀一点？”秦念努力将脑中那个用傅里叶变换分析光强分布、进而通过调整基片旋转速度曲线和光源距离/角度来补偿不均匀性的复杂概念，翻译成他们能理解的“直觉”，

“比如说，我们在涂胶的时候，不要傻傻地用一个速度转，一开始快一点，中间慢一点，最后再快一点？让胶水靠不同的‘甩劲儿’自己找平？

曝光的时候，光源不要正对着，稍微斜一点点，或者让样品台微微晃动，让光线‘溜达’着照，是不是就能把太强的地方平均一点给弱的地方？”

她的话听起来依旧充满了“土味儿”和“感觉”，但内在却隐隐指向了一种基于光学原理和信号处理的补偿算法雏形！

本章未完，请点击下一章继续阅读！若浏览器显示没有新章节了，请尝试点击右上角↗️或右下角↘️的菜单，退出阅读模式即可，谢谢！